セルロイドカンファレンス２０００

セルロイドカンファレンス　２０００

開催の目的セルロイドの歴史と産業の盛衰、その栄光と影を産業歴史的観点から眺め、今日のプラスチックス産業の先駆者ともいえるセルロイド工業について、客観的事実を把握し、この分野で活躍した方々の生きた記録や経験を正確に次世代に伝えるために、ジョンハイヤットのセルロイドに関する米国特許公告１３０周年を記念して開催します。セルロイドカンファレンス２０００には、セルロイド工業に関与した方々に広くご参加いただき、産業文化史的資料の報告、及び個人的体験談等を発表して頂く予定です。カンファレンス２０００を契機に、今後資料やデータ及び論文や過去の記録、研究報告、社誌等を収集し、広くセルロイドに関するデータベースを構築したいと考えております。
（注）ジョンハイヤットの特許は１８７０年７月１２日に公告されました。その内容は次の通りです。－ U.S. Patent, Number 105,338 Improvement in Treating and Molding Pyroxylin.
The patent consist the following three claims. The grinding of Pyroxylin (nitrocellulose) into a pulp. The use of finely ground camphor added to the pulp and then heated to activate the solvent action. The use of pressure during the heating and cooling process.
「日　時」	２０００年１０月９日（月）	午後２時～４時３０分カンファレンススケジュールに従い行います。
		午後５時～７時カクテルパーティー形式による懇親会
「場　所」	国際文化会館（東京都港区六本木5丁目11番16号）電話　０３（３４７０）４６１１地下鉄日比谷線六本木下車。3番出口より徒歩10分。
「会　費」	セルロイドカンファレンス２０００委員会の招待者はすべて無料、一般参加希望者は５，０００円（但しパーティー参加料も含む）当日までにセルロイドに関連した資料、製品、サンプルその他関連の品々をセルロイドハウス（仮称）にご寄贈いただける方は無料となります。またご寄贈いただいた方のお名前（英文および日本文）を将来建設予定のセルロイドライブラリ・メモワールハウス正面玄関のゴールドプレートに刻み込み永久保存を計ります。
「申込先」	東京都港区赤坂２丁目４番１号ＤＪＫインターナショナル株式会社セルロイドカンファレンス２０００委員会宛電　話　０３（３５８５）８１３１ＦＡＸ　０３（３５８８）１８３０電子メール　ｄｊｋ＠ｖｅｎｕｓ．ｄｔｉ．ｎｅ．ｊｐ
	※　申込参加者には、参加証と案内地図をお送りいたします。ご参加者で皆様方にご披露いただけるものがあれば当日お持ちいただければ幸です。
「申込締切」	２０００年９月３０日
	プログラム詳細
「今後の計画」	セルロイドカンファレンス２０００委員会を新しくセルロイド産業文化史研究会に編成変えの上定期的活動を続ける。広範囲にわたり資料収集をはじめ、研究会を開催する。２００１年１０月を目標に「我が国セルロイド産業の盛衰－栄光とメモワール」（仮題）を制作し、刊行する。発行は化学工業日報社を予定する。セルロイドに関係する関連施設や産業歴史的スポットを見学し、映像に記録し、次世代に記録として残す。継続的に資料および生地見本､関連機器、冶工具、金型、製品見本、各種宣伝用展示品、カラーサンプル等の収集を続ける。関係各位のご協力と資料提供をお願いする次第である。ホームページを制作し、国内、海外のセルロイドに関心のある方々と交流を計る。米国、欧州のセルロイドに関連した産業文化史的スポットを見学し勉強する。併せてセルロイド関係者との直接交流を計る。 National Plastics Center & Museumと事業提携し、定期的交流を行う。その他、学術文献資料をセルロイドライブラリ・メモワールハウス（仮称）に集約し研究者及び関心ある方々の研究調査の便宜を計る。セルロイド関連の資料およびサンプルの常設展示を行う。